1. Pertimbangan reka bentuk
(1) Benarkan cuaca yang betul
Pembentukan karat awal:
Keluli akan berkembang apatina pelindung(lapisan karat yang stabil)6-24 bulan.
Karat awal mungkin noda permukaan bersebelahan (misalnya, konkrit) -gunakantepi titisan sementaraatauperencat karatjika diperlukan.
Saliran & Pengudaraan:
Elakkanperangkap air(contohnya, lekuk mendatar, celah) di mana kelembapan dapat berkumpul.
Reka bentukpermukaan yang cerahdanlubang saliranuntuk mengelakkan air yang bertakung.
(2) Elakkan kakisan galvanik
Jangan terus berhubungkelogam yang berbeza(contohnya, aluminium, keluli tahan karat).
Penyelesaian: Gunakanspacer penebat(getah, plastik) atausalutan pelindungpada titik hubungan.
(3) Rintangan Keletihan & Tekanan
SMA490AW adalahNotch-sensitif-Avoid tajam dalam reka bentuk.
GunakanPeralihan bulatdanProfil kimpalan licinUntuk mengurangkan kepekatan tekanan.
2. Fabrikasi & Kimpalan
(1) Pemotongan & Pemesinan
Boleh dipotong melaluiplasma, laser, atau oxyfuelkaedah.
Pengisaran/penggerudian: Gunakan alat karbida untuk hasil terbaik (lebih keras daripada keluli ringan).
(2) Prosedur kimpalan
| Kaedah | Logam pengisi yang disyorkan | Panaskan (jika diperlukan) |
|---|---|---|
| Smaw (tongkat) | E7018 (rendah hidrogen) | 100–150°C (for >Ketebalan 25mm) |
| Gmaw (mig) | ER70S-6 atau ER80S-NI1 | Sama seperti di atas |
| Fcaw | E71T-1 (fluks-cored) | Sama seperti di atas |
Pembersihan pasca kimpalan: Keluarkan sanga/spatter untuk mencegah kakisan setempat.
Elakkan input haba yang berlebihan: Boleh melemahkan zon yang terjejas haba (HAZ).
3. Rawatan & Penyelenggaraan Permukaan
(1) Pembangunan patina semulajadi
Jangan catKecuali diperlukan-lapisan karat adalah ciri perlindungan.
Mempercepat pembentukan patina:
Cahayapenyemburan airdi iklim kering.
KomersialPemecut Cuaca(contohnya, asid asetik dicairkan).
(2) Pembersihan & Pembaikan
Keadaan normal: Biarkan patina berkembang secara semulajadi.
Pewarnaan/kakisan berat:
CahayaSandblasting(Elakkan mengeluarkan patina yang stabil).
MemohonPrimer tahan cuacaJika recoating diperlukan.
